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鑄造單晶技術(shù):有望實(shí)現(xiàn)更大突破

鉅大LARGE  |  點(diǎn)擊量:1037次  |  2020年04月05日  

九月五日,2019我國國際光伏技術(shù)論壇(CITPV)在杭州舉辦。中科院院士、浙江大學(xué)教授楊德仁在演講中表示,鑄錠晶體硅是太陽能的重要的電池材料,在提高單晶率、降低籽晶成本后,將給產(chǎn)業(yè)帶來重要突破。


楊德仁指出,直拉硅單晶效率較高且晶格完整,質(zhì)量較好,但同時(shí)由于能耗高,對應(yīng)的成本也相對較高。從目前的技術(shù)現(xiàn)狀來看,直拉單晶重要使用的是重復(fù)拉晶技術(shù),即將生長完成后的晶體重復(fù)拉出,我們使用的水冷套技術(shù)可通過加快冷卻速度,縮短生長時(shí)間,大幅新增晶體生長長度來降低成本,目前可做到3-4米,生長約4-6根。


但光衰減是直拉單晶目前尚未克服的一大挑戰(zhàn)。核心原因在于晶體生長時(shí)使用的SiCi坩堝,從根本上解決這個(gè)問題要降低氧含量,目前的研究方向重要有兩點(diǎn),一是在現(xiàn)有的SiCi坩堝加高層的二氧化硅或其他涂層,使氧難以進(jìn)入硅壟體;二是做高純的碳化硅的SiCi坩堝。


蜂巢硅片是目前直拉單晶在國際上盛行的一種新技術(shù)。楊德仁介紹,將單晶硅片切成六邊形,單晶成品棒利用率可新增19%,單晶硅片的非硅成本下降10%以上,并且能夠兼容PERC等各種高效電池技術(shù)。


鑄錠單晶是將直拉與鑄造的優(yōu)勢結(jié)合之后的新技術(shù),但楊德仁表示,在實(shí)際生產(chǎn)過程中鑄錠單晶還是會(huì)遇到一些問題,第一是要新增籽晶的成本,第二是單晶率,第三是高密度位錯(cuò),第四是材料的利用率,這些問題都是投入產(chǎn)業(yè)過程中要繼續(xù)克服和解決的問題。我們提出一個(gè)方法晶界工程。


關(guān)于高密度錯(cuò)位的問題,楊德仁提出了晶界工程的解決方案。晶界工程可以抑制它的位錯(cuò),據(jù)我們?nèi)ツ甑膶?shí)驗(yàn)顯示,選擇∑13a的晶面,可以看到底部到頂部整個(gè)的晶界非常清晰,邊緣硅錠制備電池的平均效率絕對值提高了0.59%,中心區(qū)鑄造單晶與直拉單晶效率相差0.05%,達(dá)到了直拉單晶的水平。


在可預(yù)見的將來,硅將是光伏產(chǎn)業(yè)的重要基礎(chǔ)材料,直拉硅單晶的氧濃度降低和光衰減抑制期待更好解決,鑄造單晶技術(shù)的單晶率、位錯(cuò)、籽晶問題依然有待突破。


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